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·超声波诱导石英材料均质化技术· 高均匀性低应力

基于气相沉积与振动环境结合，实现高精密石英材料的去应力处理，最新测试结果表明Ф200口径内，应力双折射可达0.9nm/cm，折射率均匀性<0.9ppm

主要技术指标（应用于248nm,深紫外光刻机镜头）

高精密石英材料样品的检测报告参数

高精密石英材料样品的光学均匀性分布及应力双折射分 D200，光均0.9PPM

·超临界氢分子过饱和渗透技术· 低羟基高氢掺杂

开发了具有精密控制流量的高性能氢气炉，能够对经过退火的石英材料进行掺氢处理，提升材料在紫外波段的透过率性能，耐辐照性能，用于满足光刻的需求。

基于低温氢掺杂，实现高均匀性材料掺杂处理

羟基含量 <60ppm

氢离子浓度 >5E16 摩尔/cm³

进口材料

·超大尺寸非球面高精密光学表面综合处理及检测技术

针对性地改善光学石英的面形精度以及粗糙度，将经典抛光、高速抛光和离子束抛光等工艺进行了优化结合，将各种工艺的优势性能保留至最终产品，以达到超精密超光滑的加工效果。

基于环抛、离子束等多模式组合加工，实现超精密光学元部件的超光滑加工

面形精度优于25nm(1/25λ@632.8nm)，粗糙度优于0.25nm

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